MEF2013 Countdown - Forum Exhibitors

クレステック

MEMS事業への取り組み

(1) 2nm~のビーム径を持つ高分解能な電子線描画装置の販売&提供と通し、お客様のNEMS&MEMSへの取り組みに側面から貢献しております。

 

(2) EB描画受託加工サービスを通して、お客様から頂いたウェハーに頂いたパターンデザインに従い、EB描画をするEB受託加工サービスのご提供し、お客様のNEMS&MEMSへの取り組みに側面から貢献しております。

出展製品の紹介

※全てパネル及びカタログ展示

XYZステージ方 超高精度ポイントビーム型EB描画装置

CABL-UH(130keV)シリーズ

世界最高クラスの加速電圧 130keV、ビーム径1.6nm、細線描画能力<5nm

CABL-9000C (50keV) シリーズ

高分解能、ビーム径2nm、細線描画能力<10nm保証

 

●両機共通の特徴

・自己環境制御(パーマロイボックス&恒温装置)

・抜群の繋ぎ&重ね合わせ精度、抜群の安定性

・用途に合せて豊富な描画方法(ラスター、Vector R-theta、Spot、FSM描画法、他)

・ユーザーフレンドリー:

 マルチユーザー仕様、レシピ化、DXT,GDSIICAD変換、CD-SEM、PEC、マウスクリックで

 ステージ移動、他)

 

EB描画受託加工サービス

頂いたウェハーに頂いたパターンデザインに従いEB描画をするEB受託加工サービスのご提供。限られたご予算で、描画のプロが短時間で仕上げます。

 

超高精度ポイントビーム型EBマスタリングシステム CEBR-3000シリーズ

超高精度フリクションドライブ採用、次世代HDDパターンドメディア対応、全面描画対応可能な数少ない選択肢。

 

EB面一括露光装置CSELシリーズ

開発中の次世代面露光装置。

大面積、高分解能露光を同時に実現。

Column’s Author

Sinichi Kato is a freelance writer and editor specializing in MEMS, semiconductor, display, and energy-related technologies. He also conducts various projects in research, event planning and consulting on a broader range of topics such as electronics, city planning, lifestyle, and culture.

From 2008 to 2010, Mr. Kato worked as a staff writer and editor for the Nikkei Microdevices magazine and the Tech-On! online technical media at Nikkei Business Publications. Before joining Nikkei Business, he worked for Electronic Journal, Inc. as a staff writer and editor for Electronic Journal, a publication dedicated to electronics, since 2002. Mr. Kato graduated from Chuo University in Tokyo in 1999 with a BA degree in literature.

 

加藤 伸一 略歴:

MEMSや半導体、ディスプレイやエネルギー関連デバイスなどの専門誌における経験をもとに、エレクトロニクスから街づくり、衣食を中心とした生活、文化関連まで、幅広い分野で活動するジャーナリスト。産業技術総合研究所 集積マイクロシステム研究グループ広報担当。

2002年~2008年 株式会社電子ジャーナル(Electronic Journal, Inc.)にて、エレクトロニクス専門誌「Electronic Journal」の記者。

2008年~2010年 株式会社日経ビーピー(Nikkei Business Publications, Inc.)にて、電子でバイス専門誌「Nikkei Microdevices」や、技術系webサイト「Tech-On !」の記者。

2010年~ フリーランスのジャーナリストとして、各種調査、イベント企画、コンサルティングなどの領域で活動中。

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