MEF2015 - Forum Exhibitors

協同インターナショナル

弊社保有の半導体加工設備・材料知識・国内外のネットワークを使って、MEMSおよびMEMS用ASICの 設計~試作~量産まで、ご予算とスケジュールに合わせ、お客様のMEMS事業をサポートします。

 

【MEMS事業への取り組み】

○MEMS設計開発

・技術戦略~デザイン~シミュレーションまでMEMS設計に対応し、設計に基づいたプロトタイプ試作~パイロットプロダクション~量産ファウンダリーへ展開も可能です。

・MEMS用ASICの設計~試作~量産はSi-Ware社で対応します。

○MEMS製造

・Pure Play MEMSファウンドリ のSilex Microsystems社との提携により、φ6”、φ8”MEMS専用ラインにより様々なMEMSデバイスに対応します。

○MEMS開発ツール

・MEMSデバイス製造に関係するMEMS開発ツールを提案します。

 

【出展製品の紹介】

○MEMS設計開発

・MEMS設計 A.M.Fitzgerald & Associates

 MEMS設計に特化したA.M.Fitzgerald & Associates社との提携により、技術戦略~構造設計~プロセス設計~プロトタイプ試作~少量産まで、お客様のMEMS開発を全面的にサポート致します。

・ASIC設計 Si-Ware Systems

 ASIC設計製造に特化したSi-Ware systems社との提携により、MEMS用ASICの設計、試作、量産までお客様を全面的にサポート致します。

○MEMS製造

・Silex Microsystems社との提携

 MEMSファウンドリ大手の実績・経験から、最適な加工プロセスを提案します。

独自技術のご紹介

 Sil-Via(オールSi貫通電極)、Met-Cap(中空構造のCu-TSV)、スマートBLOCK(プロセス標準化)、Sol-gelPZT生産技術を紹介します。

○MEMS開発ツール

・ウェハ接合装置”AMLウェハボンダ―”

 アラインメントから接合までを同一チャンバーで処理可能。

 ±1μmの位置合わせ精度を実現します。

・位相シフトマスク露光装置"PhableR 100"

 独自の露光技術により、シンプルかつリーズナブルコストでDUV相当の高解像度周期パターンが得られるコンタクトレスのプロキシミティ露光装置です。

・樹脂製多目的スピンコーター“POLOS”

 コート、エッチング、現像、乾燥と様々な加工ができます。

・両面露光マスクアライナー”OAI Model 200”

 MEMS開発に最適なコンパクト設計の露光装置です。

Gold Sponsors

Sony Corporation

Silver Sponsors

Bronze Sponsors

EXHIBITORS

Gold Exhibitors

Venture Exhibitors

Academia Exhibitors

The Microfluidic Integrated Circuits Laboratory at The University of Tokyo

(Miyake Lab)

4 University Nano Micro Fabrication Consortium