MEF2015 - Forum Exhibitors

弊社保有の半導体加工設備・材料知識・国内外のネットワークを使って、MEMSおよびMEMS用ASICの 設計～試作～量産まで、ご予算とスケジュールに合わせ、お客様のMEMS事業をサポートします。

【MEMS事業への取り組み】

○MEMS設計開発

・技術戦略～デザイン～シミュレーションまでMEMS設計に対応し、設計に基づいたプロトタイプ試作～パイロットプロダクション～量産ファウンダリーへ展開も可能です。

・MEMS用ASICの設計～試作～量産はSi-Ware社で対応します。

○MEMS製造

・Pure Play MEMSファウンドリ のSilex Microsystems社との提携により、φ6”、φ8”MEMS専用ラインにより様々なMEMSデバイスに対応します。

○MEMS開発ツール

・MEMSデバイス製造に関係するMEMS開発ツールを提案します。

【出展製品の紹介】

○MEMS設計開発

・MEMS設計 A.M.Fitzgerald & Associates

　MEMS設計に特化したA.M.Fitzgerald & Associates社との提携により、技術戦略～構造設計～プロセス設計～プロトタイプ試作～少量産まで、お客様のMEMS開発を全面的にサポート致します。

・ASIC設計 Si-Ware Systems

　ASIC設計製造に特化したSi-Ware systems社との提携により、MEMS用ASICの設計、試作、量産までお客様を全面的にサポート致します。

○MEMS製造

・Silex Microsystems社との提携

　MEMSファウンドリ大手の実績・経験から、最適な加工プロセスを提案します。

独自技術のご紹介

　Sil-Via（オールSi貫通電極）、Met-Cap（中空構造のCu-TSV）、スマートBLOCK（プロセス標準化）、Sol-gelPZT生産技術を紹介します。

○MEMS開発ツール

・ウェハ接合装置”AMLウェハボンダ―”

　アラインメントから接合までを同一チャンバーで処理可能。

　±1μmの位置合わせ精度を実現します。

・位相シフトマスク露光装置"PhableR 100"

　独自の露光技術により、シンプルかつリーズナブルコストでDUV相当の高解像度周期パターンが得られるコンタクトレスのプロキシミティ露光装置です。

・樹脂製多目的スピンコーター“POLOS”

　コート、エッチング、現像、乾燥と様々な加工ができます。

・両面露光マスクアライナー”OAI Model 200”

　MEMS開発に最適なコンパクト設計の露光装置です。